顯影過程中正膠薄膜結構的形成是通過溶解曝光區域，而負膠顯影去除的是未曝光的區域，對于可重復的結果，溫度范圍在21-23℃誤差±0.5°保持。常見的顯影方式有：浸沒式、噴淋式和攪拌式三種。 最佳顯影的時間取決于光刻膠類型、膠厚、曝光波長、烘烤溫度和顯影的工序，對膜厚小于2um顯影時間不大于2min，例如對于浸沒或攪動顯影的時間范圍在20-60s，不要超過120s。膜厚超過10um的膠層需要2-10min，膜厚達到100um的膠厚，顯影時間超過60min，更密集的噴淋式顯影要求的時間更短。 參數比和敏感度是通過顯影液在去離子水中的濃度來確定的。 注：非金屬離子顯影液比緩沖體系的對稀釋更加敏感，這種顯影液應該在使用前立即完全稀釋，為了保證結果的可重復性，如果可能的話請使用天平。 高濃度顯影液：形式上的結果是增加正膠顯影液系統的光靈敏度，要求減小曝光能量，減小顯影時間，考慮到獲得更好的產出率，可能會產生一些不利的影響殘膜率以及（在某些條件下）工藝穩定性低（太快）。負膠要求更高的曝光劑量和更高的顯影液濃度。 低濃度顯影液：提高正膠薄膜獲得更高的對比度，減小未曝光區域的腐蝕或者只有部分曝光截面區域有更長的顯影時間。這是一種有著特別高的選擇性的工作方法，能確保更好的細節表現。 浸沒式顯影受工藝產出率和從空氣中吸入的CO2等條件的限制。工藝產出率取決于部分曝光區域。CO2的吸入也由于頻繁打開顯影液瓶子導致顯影速率的下降，這個影響可通過將顯影浴表面置于氮氣下來避免。 沖洗/定影 顯影完成后應將襯底立即用去離子水沖洗（對應于水溶性堿性顯影液），對于使用有機溶劑作為顯影液的光刻膠，通常選擇對應的定影液將殘留的顯影液沖洗干凈，以避免殘余的顯影液繼續腐蝕光刻膠。 針對客戶不同的需求，華林科納CSE研發了新型六工位旋轉顯影機。 占地面積為1400×1400×2100(L×W×H)。設備放置在地坪上。 清洗零件最大質量：50Kg/件 清洗工藝流程:人工上料→顯影1→顯影2→顯影3→顯影4→顯影5→人工下料 設計特點 ·設有人機觸摸屏控制，方便人工操作、數據調節和產量記錄、節拍記錄調節。 ·采用專用工裝，設計為可拆卸式。 ·工裝的支撐部位采用不銹鋼構件，和工件接觸部位采用PFA花籃，防止碰傷工件。 ·設備采用全自動控制運行，工藝的時間可自由調節。 ·設備設有多個緊急停止按扭，防止出現特別事件的非常停機。 ·從使用安全方面考慮，設備內部使用380V、220V電壓控制，人工操作部分一律使用24V安全電壓！ ·顯影腔室尺寸：300×320×260（L×W×Hmm）（以實際設計尺寸為準）。在槽內按裝硅片擋塊 140*75*10（L×W×Hmm）（螺絲固定在槽體并可調節距離）增加刻度尺，方便加液 ·設備前中部封板固定方式按裝，左右后部封板采用移門方式按裝并在最外面的門板上裝有把手，設備底部封板采用雙開門按裝。 ·作業過程使用時間控制，工作流程1，上料，旋轉工位 下降（傳感器按制） 拋動（時間控制）浸泡（工作時間可以設定)：上升（傳感器）旋轉工位（完成一次作業，并計數一次） ·電器和氣動元件的選用需滿足SDS/D000093-2000《新訂設備常用技術標的有關規定》； ·主電控柜采用外部斷電式空開，以增強設備使用安全。 ·配有獨立的配電柜，電路方面進行功能分塊強電、弱電分塊，以便維護。（電柜與主機隔房放置，中間線長10米，控制線采用航插聯接。電機與控制線在電柜內聯接。 ·設備的主機、附件及所有附屬設施應采取設備安全防護措施，具有意外斷氣、斷電維持工作構件正確位置等安全保護措施及裝置。 ..... |
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